精品国产美女福利在线不卡丨丝袜亚洲精品中文字幕一区丨好男人在线社区www资源丨末成年娇小性色xxxxx丨亚洲午夜永久久久久久久久久

標準半導體工藝
·LPCVD氮化硅（標準型)
·LPCVD氮化硅（低應力型）
·LPCVD斜坡溫度多晶硅
·LPCVD一致晶粒多晶硅
·LPCVD氧化層TEOS（正硅酸乙脂）
·LPCVD VLTO（低溫氧化）
·LPCVD BPSG（硼磷硅玻璃）
· 高溫氧化
· 干法氧化
· 濕法氧化
· 摻雜擴散 （3-4路液相摻雜管路 ( POCL3 or BBR3)）
· 5-6路TCA或Hcl氣路
· 混合氣體退火
· 高溫熱回火
· 低溫退火和合金化
· 高溫驅入（Drive in）

標準LED工藝
·高真空退火（環境可控）
·低溫合金化/退火

標準PV（太陽能）工藝
·濕氧/干氧
·PN結驅入
·Forming氣體退火
·氫氣退火
·低溫熱處理
·POCl3，BBr3 PN結和槽
·反射氮化膜（ARC Nitride coating）

標準MEMS（微機電）工藝
·低應力CVD氮化物
·氧氮化物SIPOS
·厚氧
·TEOS，良好的臺階覆蓋能力
·多晶硅和摻雜多晶硅

產品留言

標題

聯系人

聯系電話

內容

驗證碼

點擊換一張

注：1.可以使用快捷鍵Alt+S或Ctrl+Enter發送信息!
2.如有必要,請您留下您的詳細聯系方式!